单双温区管式炉
CVD-1200系统由开启式单(双)温区管式炉、高真空分子泵系统、压强控制仪及多通道高精度故字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。
高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、
CVD/CVI实验，特别适用于真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所。
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产品介绍
服务流程
项目前期沟通
一对一沟通客户需求，包括对温度，规格等要求，针对性提供最合理的建议，满足客户的需求。
制定方案及确认
根据客户的不同需求为用户提供针对每台试验设备的系统，功能改造方案，确保用户的利益最大化。
生产测试及发货
确认方案并确保更好的实施后，生产出设备并进行有效测试，达到用户的使用标准，然后装箱发货。
指导安装及调试
设备达到现场后，根据验货清单验收，确保按合同交货。安排技术人员到现场指导安装及调试支持。
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